《功能材料与器件学报》“原子层沉积技术进展”专题征文通知
原子层沉积（Atomic Layer Deposition， ALD）是一种先进的薄膜沉积技术，它通过将气相前驱体以脉冲的形式交替通入反应室，并在衬底表面发生反应，从而逐层形成原子级别的薄膜。当前该技术已用于制备多种材料，包括氧化物、氮化物、半导体材料、金属、氟化物、有机-无机杂化材料等。由于其自限制反应的特点，该技术可以在原子水平上精准控制薄膜生长厚度和材料特性，实现致密、高保形性、无针孔的高质量薄膜沉积。得益于上述优势，该技术已经被广泛应用在微电子、新能源、新材料及生物医学等多个领域，特别是在集成电路器件制备具有重要作用。随着科技的不断进步和创新，原子层沉积作为一种先进的薄膜沉积技术，将为我国未来的科技和产业升级提供更加强有力的支持。
《功能材料与器件学报》编辑部特邀复旦大学梅永丰教授策划了“原子层沉积技术进展”专题，本专刊旨在汇集我国在该领域的最新科技研究进展，成为从事原子层沉积技术研究、生产和应用的科研工作者、工程技术人员和高等院校师生的学术交流和经验分享平台，欢迎广大师生、科研人员、工程技术人员踊跃投稿、荐稿。
关键词：
原子层沉积（ALD）
原子层刻蚀
粉末ALD
选择性ALD
金属互联
等离子体
表面改性
栅介质
前驱体
封装
征稿要求：
1、稿件须为原创作品，具有创新性、科学性、学术性和可读性。投稿论文须保证尚未公开发表过，且不涉及泄密问题，若发生侵权或泄密问题，责任由作者承担。
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6、投稿截止时间：2025年6月30日
特邀编委简介：
梅永丰，复旦大学材料科学系教授、博导、副系主任。已发表学术论文 300 余篇，被引用15000余次，出版英文学术专著1本。曾获中国半导体十大研究进展提名奖、中国材料研究学会科学技术基础研究类一等奖和科技进步一等奖等。获欧洲材料学会青年科学家奖、莱布尼茨固态材料所研究奖、国家优秀青年科学基金、教育部青年长江学者、上海市优秀学术带头人、上海东方英才领军、国家科技创新领军人才等。目前担任Applied Physics Letters 副主编，以及Chemistry of Materials等国际期刊和《功能材料与器件》等国内期刊编委。